Рабочий проект
ISO/WD 19383
Atomic Layer Deposition-- Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
Ссылочный номер
ISO/WD 19383
Версия 1
© ISO 2024
Рабочий проект
В стадии разработки
Проект данного международного стандарта был подготовлен рабочей группой.

Тезис

This document describes the chemical characteristics and related process specifications of the atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity, and anion content specification.

Общая информация

  • Текущий статус
     : В стадии разработки
    Этап
    : Рассылка комментариев [20.60]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 107
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. ТК
  5. ISO/TC 107
  6. ISO/WD 19383