ISO/AWI 19383
Atomic Layer Deposition-- Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
Reference number
ISO/AWI 19383
Edición 1
© ISO 2024
Working draft
En desarrollo
Un grupo de trabajo ha preparado un borrador.

Resumen

This document describes the chemical characteristics and related process specifications of the atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity, and anion content specification.

Informaciones generales

  • Estado
     : En desarrollo
    Etapa
    : Nuevo proyecto registrado en el programa de trabajo TC/SC [20.00]
  • Edición
     : 1
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 107
  • RSS actualizaciones

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Esta norma contribuye al siguiente Objetivo de Desarrollo Sostenible

9
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