ISO 12406:2010

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Publicado (Edición 1, 2010)

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ISO 12406:2010

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Resumen

ISO 12406:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 x 10¹⁶ atoms/cm³ and 2,5 x 10²¹ atoms/cm³, and to crater depths of 50 nm or deeper.

Informaciones generales

Estado
: Publicado

Fecha de publicación
: 2010-11

Etapa
: Norma Internacional confirmada [90.93]
Edición
: 1

Número de páginas
: 13
Comité Técnico :
ISO/TC 201/SC 6

ICS :
71.040.40
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