Norme internationale
ISO 21859:2019
Céramiques techniques — Méthode d’essai pour déterminer la résistance au plasma des composants céramiques dans les équipements de production à semi-conducteurs
Numéro de référence
ISO 21859:2019
Edition 1
2019-06
© ISO 2024
Norme internationale
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Indisponible en français
Publiée (Edition 1, 2019)

ISO 21859:2019

Format
Langue
CHF 42
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Résumé

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.

Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2019-06
    Stade
    : Norme internationale en cours d'examen systématique [90.20]
  • Edition
     : 1
  • Comité technique :
    ISO/TC 206
    ICS :
    81.060.30 
  • RSS mises à jour

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