International Standard
ISO 14706:2014
Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Reference number
ISO 14706:2014
Edición 2
2014-08
© ISO 2024
International Standard
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No disponible en español
Publicado (Edición 2, 2014)
Esta norma se revisó y confirmó por última vez en 2021. Por lo tanto, esta versión es la actual.

ISO 14706:2014

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Resumen

ISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); contamination elements with atomic surface densities from 1 × 1010 atoms/cm2 to 1 × 1014 atoms/cm2; contamination elements with atomic surface densities from 5 × 108 atoms/cm2 to 5 × 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.

Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2014-08
    Etapa
    : Norma Internacional confirmada [90.93]
  • Edición
     : 2
    Número de páginas
     : 25
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 201
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS actualizaciones

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